Centrale Technologique de Recherche et Développement

Dépôt de couches minces

Image 1 Bâti de pulvérisation cathodique Plassys MP700S

• Taille des wafers: 100mm
• Gaz de process: Ar, N2, O2
• Cibles disponibles: Au, Ti, Al
Image 2 Bâti de pulvérisation cathodique Phénix

• Taille des wafers: 50mm
• Gaz de process: Ar, N2, O2
• Cibles disponibles: Al, Nb
Image 3 Bâti d'évaporation pour non diélectriques

Matériaux: Au, Cr, MgF2
Image 4 Bâti d'évaporation pour diélectriques

Matériau: SiO2
Image 4 Dépôt d'or par plasma